- 扫描电镜二次电子成像原理及应用
  - 实验示例
    - 压缩断裂金属玻璃样品断口观察
    - 氧化锌纳米线的形貌展示
  - 二次电子成像特点
    - 立体感强
    - 景深足够
    - 图像清晰
  - 核心问题解析
    - 二次电子像衬度产生机制
      - 入射电子束激发样品表面核外电子逃逸
      - 二次电子能量低，仅从表层逃逸
      - 衬度与样品表面几何形状相关
    - 二次电子像与其他成像方式的差异
      - 信号来源为样品表层5-10纳米范围
      - 衬度与电子束和样品表面夹角相关
    - 二次电子像适用场合
      - 断口形貌观察
        - 解释冰糖状、尖棱、凹槽等形貌的明暗对比
      - 动态过程观察
        - 材料变形、滑移线、裂纹扩展实时跟踪
      - 金相组织观察
        - 几何起伏增强立体感
      - 其他样品表面形貌观察
        - 纳米材料形貌分析
  - 成像原理总结
    - 二次电子产额决定图像衬度
    - 样品表面几何起伏是关键因素
  - 应用拓展
    - 多领域适用性
    - 强调几何形状对成像效果的影响